تتضمن عملية ما بعد التشطيب لمواد الترشيح غير المنسوجة المثقوبة بالإبرة لمرشح الكيس بشكل أساسي الغناء ، والتقويم ، والغمس ، وإعداد الحرارة ، والتصفيح ، وما إلى ذلك.

يتم إجراء ترشيح مادة المرشح الغشائي على سطح الغشاء ، والذي يختلف عن الترشيح العميق لمادة المرشح العادية. إنه ينتمي إلى ترشيح السطح. في ظل ظروف العمل العادية ، يمكن أن تصل كفاءة الترشيح لمادة مرشح الغشاء إلى 99.99٪ ، ويمكن التحكم في دقة التفريغ التي تقل عن 5mg / Nm3.

مادة الغشاء المستخدمة في مادة الترشيح الغشائي هي في الغالب غشاء صغير يسهل اختراقه متعدد رباعي فلورو الإيثيلين (PTFE) ، والذي ينقسم إلى غشاء بدرجة حرارة عالية وغشاء بدرجة حرارة عادية. يتم توصيل غشاء PTFE الصغير الذي يسهل اختراقه بمادة المرشح باستخدام درجة حرارة وضغط مرتفعين. بالنسبة لوسائط الترشيح المصنوعة من الألياف اللدنة الحرارية ، فإن قوة اللصق الناتجة عن إعادة صهر الذوبان على السطح بعد الغناء المنتظم لها تأثير إيجابي على ثبات الفيلم ؛ بالنسبة لوسائط مرشح الألياف المتصلدة بالحرارة ، يمكن لصق غشاء PTFE الصغير الذي يسهل اختراقه بعد معالجة سطحية خاصة. أغلقوا معا بقوة.

يحتوي غشاء PTFE الصغير الذي يسهل اختراقه على جميع خصائص مادة PTFE. تتبنى Yuanchen Technology آلة تصفيح التسخين الكهرومغناطيسي Tokuden المستوردة ، وتستخدم تقنية التصفيح "عالية الكفاءة والمقاومة المنخفضة" التي طورتها Yuanchen Technology بشكل مستقل من أجل الارتباط الوثيق بمادة مرشح ألياف PTFE. يمكنه تحسين أداء الترشيح لمواد المرشح بشكل فعال وتلبية الانبعاثات المنخفضة للغاية التي تقل عن 5 مجم / متر مكعب عادي.